簡要描述:涂層測(cè)厚儀:可用于實(shí)驗(yàn)室,也可用于工程現(xiàn)場(chǎng)。本儀器能廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域,是材料保護(hù)重要的儀器。
產(chǎn)品分類
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品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,農(nóng)業(yè),地礦,建材,綜合 |
涂層測(cè)厚儀
【主要功能】
● 采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法,即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度。
● 具有兩種測(cè)量方式:連續(xù)測(cè)量方式和單次測(cè)量方式
● 具有三種測(cè)量模式:高精度測(cè)量模式可對(duì)多次測(cè)量取平均,并對(duì)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行自動(dòng)過濾,可確保測(cè)量值更加準(zhǔn)確、穩(wěn)定;快速測(cè)量模式可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)掃描功能。
● 具有溫度補(bǔ)償功能:實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償技術(shù)可自動(dòng)對(duì)環(huán)境溫度及測(cè)頭溫度改變引起的測(cè)量誤差進(jìn)行補(bǔ)償,使測(cè)量更準(zhǔn)確。
● 設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量:平均值( MEAN)、 最大值( MAX)、最小值( MIN )測(cè)試次數(shù)(NO.)、標(biāo)準(zhǔn)偏差(S.DEV )。
● 可采用零點(diǎn)校準(zhǔn)、單點(diǎn)校準(zhǔn)或兩點(diǎn)校準(zhǔn)法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)并可用基本校準(zhǔn)和溫度系數(shù)校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正。
● 具有存儲(chǔ)功能:最多可存儲(chǔ)500個(gè)測(cè)量值。
● 具有刪除功能:對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除,也可刪除存儲(chǔ)區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù),以便進(jìn)行新的測(cè)量。
● 可設(shè)置限界:對(duì)限界外的測(cè)量值自動(dòng)報(bào)警。
● 具有電源電量指示功能。
● 操作過程有蜂鳴聲提示。
● 說有三種關(guān)機(jī)方式:手動(dòng)關(guān)機(jī)方式,超時(shí)自動(dòng)關(guān)機(jī)方式以及低電量自動(dòng)關(guān)機(jī)方式,并可設(shè)置超時(shí)自動(dòng)關(guān)機(jī)等待時(shí)間。
涂層測(cè)厚儀
【技術(shù)參數(shù)】
項(xiàng)目 | Leeb252C | ||
測(cè)頭類型 | F1 | N1 | |
工作原理 | 磁感應(yīng) | 電渦流 | |
測(cè)量范圍 | 0~1500μm | 0~1500μm | |
低限分辨率 | 100um以下0.1um,100um以上1um | ||
示值wu cha | 零點(diǎn)校準(zhǔn) | ±(3%H+1) | |
兩點(diǎn)校準(zhǔn) | ±[(1~3%)H+1] | ||
測(cè)試條件 | 最小曲率半徑mm | 凸1.5 | 凹3 |
最小面積直徑mm | Φ7 | Φ5 | |
基本臨界厚度mm | 0.5 | 0.3 | |
工作環(huán)境 | 溫度 | 0~40℃ | |
濕度 | 20%~90% | ||
電源 | 二節(jié)7號(hào)堿性電池(1.5V) | ||
外形尺寸 | 112×70×23mm(主機(jī)) | ||
重量 | 約80g | ||
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 主機(jī)、標(biāo)準(zhǔn)試片、基體、AAA型堿性電池 |
【校準(zhǔn)方法】
本儀器提供兩種測(cè)量中使用的校準(zhǔn)方法:零點(diǎn)校準(zhǔn)和兩點(diǎn)校準(zhǔn);以及兩種針對(duì)探頭的校準(zhǔn)方法:基本校準(zhǔn)
零點(diǎn)校準(zhǔn)
在不同基體上進(jìn)行測(cè)量時(shí)重新進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn),當(dāng)校準(zhǔn)使用的基體與待測(cè)試件基體性質(zhì)偏差較大時(shí),測(cè)量值將會(huì)產(chǎn)生偏差。可使用以下兩種方法之一進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn):
方法1:a)在基體上進(jìn)行一次測(cè)量 ,屏幕顯示< xxμm>。
b)在提起測(cè)頭之后長按“校正" 鍵,屏顯<0.0um>,校準(zhǔn)完成。
方法2:可短按“校正" 進(jìn)入校準(zhǔn)界面,對(duì)基體進(jìn)行測(cè)量,按“確認(rèn)"鍵,然后跳過下一個(gè)界面“測(cè)量(1000um)時(shí),按“跳過"鍵校準(zhǔn)完成。
兩點(diǎn)校準(zhǔn)
這一校準(zhǔn)法適用于高精度測(cè)量及小工件、淬火鋼、合金鋼。
a)可短按“校正"進(jìn)入校準(zhǔn)界面,對(duì)基體進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn),屏幕顯示<xxxum> ,按“確認(rèn)"確認(rèn)。
b)按提示測(cè)量(1000um)的標(biāo)準(zhǔn)片,屏幕顯示< xxxum>。按“確認(rèn)"鍵確認(rèn)。(或沒有1000um的標(biāo)準(zhǔn)片時(shí),找厚度接近的膜片代替,需要在儀器上設(shè)置膜片的厚度,操作方法如下,在提示測(cè)量( 1000um )的標(biāo)準(zhǔn)片時(shí),按“設(shè)置"鍵,進(jìn)入設(shè)置校正值界面,按“∧"“∨"鍵來調(diào)整膜片的厚度值,然后按"確認(rèn)“鍵確認(rèn),返回到校正界面,這里測(cè)量( xx xum )就做相應(yīng)的改變了。
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